X射线光电子能谱技术(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)是一种重要的材料表面成分等信息的分析技术。XPS技术通过采用一定能量的X射线照射样品表面,和待测样品的表面原子发生作用,测量样品表层中原子的内层电子或价电子束缚能及其化学位移,从而获得元素种类、原子的结合状态以及电荷分布状态等信息。
XPS技术特点
XPS技术具有灵敏度高、分辨率高、元素分析全(除H和He)、为非破坏性分析、深度剖析、小于10 nm薄膜分析(角分辨)、元素化学态分布(XPS成像技术)等特点。
定性分析:
根据所测得谱的位置和形状来得到有关样品的组分、化学态、表面吸附、表面价电子结构、原子和分子的化学结构、化学键合情况等信息。
定量分析:
以能谱中各峰强度的比值为基础进行分析,把所测到的信号强度转变成元素的含量,即将谱峰面积转变成相应元素的含量。
深度剖析:
由于样品本身的层状结构如氧化、钝化等原因导致样品在深度方向上化学状态的不同。通过利用氩离子枪对样品表面进行氩离子溅射剥离,控制合适的溅射强度及溅射时间,将样品表面刻蚀一定深度,然后进行取谱分析。
角分辨电子能谱分析:
改变样品表面与入射光束间的角度,即可改变入射光的检测深度,使得检测深度变浅,这样来自最表层的光电子信号相对较深层的会大大增强。利用这一特性,可以对超薄样品膜表面的化学信息进行有效地检测,从而研究超薄样品化学成分的纵向分布。
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