日立高新场发射扫描电子显微镜SU8220是一款高性能的分析仪器,广泛应用于材料科学、纳米技术、半导体电子行业、生命科学等领域。该设备以其卓越的分辨率和稳定性,为用户提供了超高分辨率的成像能力,同时保持了长时间分析的稳定性。
一、日立高新场发射扫描电子显微镜SU8220参数介绍
1、电子枪种类:冷场发射
2、二次电子图象分辨率:0.8nm@15kV,1.1nm@1kV
3、放大倍数:20-1000000X
4、加速电压:0.01-30KV
二、日立高新场发射扫描电子显微镜SU8220优势介绍
1、超高分辨率:SU8220在低加速电压下也能提供高分辨率的图像,二次电子分辨率可达0.8nm@15kV和1.1nm@1kV,这意味着即使在低电压下也能获得清晰的图像,减少对样品的损伤。
2、高亮度稳定期:利用电子枪轰击后的高亮度稳定期,实现了高分辨观察和分析的兼顾,束流更大更稳定。
3、减轻污染的高真空样品仓:设计有助于减少样品污染,提高实验的准确性。
4、多种材料对比度可视化:通过顶部过滤器(选配项)实现多种材料的对比度可视化,增强了对不同材料的观察能力。
5、低加速电压下的高衬度背散射信号:有利于分析多相纳米材料和介孔材料,使得SU8220在低加速电压下也能获得高衬度的背散射信号。
6、先进的自动化功能:EM Flow Creator允许创建连续图像采集的自动化工作流程,提高了工作效率和图像数据的质量、重现性。
7、灵活的用户界面:原生支持双显示器,提供灵活、高效的操作空间,6通道同时显示与保存,实现快速的多信号观测与采集。
综上所述,日立高新场发射扫描电子显微镜SU8220以其卓越的性能和多功能性,成为了科研和工业分析中不可或缺的工具。二手租赁的方式为用户提供了成本效益高的解决方案,使得更多的研究机构和企业能够利用这一先进技术进行高质量的研究和分析。